内容简介
本书以仪器仪表类专业的工程训练要求为起点，从光学理论的技术应用角度，系统地介绍了应用光学和波动光学的基本思想、理论基础、概念要点及其近代发展情况。
全书分为上、下两篇，共13章。上篇为应用光学，共9章，以光在介质中的成像规律及光学系统的设计与评价为主线，内容包括几何光学的基本定律与成像概念、球面和球面系统、理想光学系统、平面与平面系统、光学系统中的光束限制、光度学和色度学基础、光线的光路计算及像差、典型光学系统以及光学系统的像质评价和像差容限；下篇为波动光学，共4章，以光在介质中的传播规律为主线，内容包括波动光学通论、光的干涉理论及其应用、光的衍射理论及其应用以及光在晶体中的传播。
本书既可作为高等学校仪器仪表及自动化类专业本科生的教材，也可供有关工程技术人员参考。