内容简介
本书深入论述了X射线光电子谱（XPS）和静态次级离子质谱（SSIMS）及其在聚合物材料研究中的应用。在聚合物表面的结构分析与特性研究，特别是解决工业研究中有关问题时，XPS和SSIMS普遍被认为是强有力的技术。随着过去十年仪器分析能力和数据阐释方面的飞速发展，该领域已经发展到有可能将这两方面的信息合并起来的阶段。本书中，作者叙述了XPS和SSIMS技术，并就各自可获得的住处类型分别作了解释。本书也包含实际研究细节，强调了在聚合物表面结构研究中，XPS和SSIMS的信息互与联合作用，及其同材料性质的关联。对那些有志于聚合物表面和表面分析科学工作者、工业研究人员，本书是很有考参价值的。