内容简介
本书较全面地介绍了有关薄膜材料制备技术的基础知识，总结了近年来薄膜材料制备领域的新进展，并融入了作者多年来在从事薄膜材料研究中所取得的成果。全书共10章，第l章主要介绍了薄膜材料的基本概念、特征，并扼要介绍了薄膜材料的物性和结构的分析方法。第2章和第3章讲述的是有关薄膜制备技术中涉及的基础知识，包括真空技术和等离子体技术等。第4章和第5章是本书的重点，着重讨论了制备薄膜材料的物理气相沉积技术和化学气相沉积技术的基本原理和方法，包括蒸发、溅射、离子束、脉冲激光和等离子体化学气相沉积技术，以及分子束外延和液相法生长技术等。第6章讨论了薄膜材料的厚度和沉积速率的检测方法。第7～10章则有选择地介绍了当前国际上研究的几种热点薄膜材料的制备和检测技术，如超低和超高介电常数薄膜、发光薄膜、超硬薄膜、巨磁电阻薄膜等，其目的是使读者进一步了解薄膜材料的广泛应用及其发展方向。
本书可供从事薄膜材料研究的科研工作者参考，也可以作为物理学、材料科学与工程、电子科学与技术等专业高年级本科生或研究生的参考读物。